在半导体制造、LED生产、光伏产业以及平板显示等高科技领域，电子气体纯度是决定终产品性能和生产效率的关键因素。LDetek工业气相色谱系统提供高灵敏度、高稳定性的实时在线监测解决方案，确保您的工艺气体纯净无瑕，从而优化生产工艺并显著提升产品质量。
MultiDetek3 是一款受欢迎的紧凑型模块化过程工业气相色谱仪，具有双进样气入口和在线模块，可以同时对微量水分、氧以及微量杂质进行流分析。
电子气体中常见的污染物。它们会导致半导体晶圆在高温工艺中发生氧化反应，腐蚀敏感材料，严重影响薄膜生长质量、器件性能和合格率。例如，在ALD/CVD工艺中，痕量氧和水分需要严格控制在0.1 ppm甚至ppb以下，避免缺陷。 包括甲烷、乙烷，丙烷以及苯系物等有机杂质。这些杂质在半导体化学气相沉积和蚀刻等工艺中，可能在晶圆表面形成碳膜残留，导致产品电气性能异常、短路或开路，甚至影响后续工艺的兼容性。 如镍羰基、铁羰基等，是极微量的金属污染物。即使是ppb级的浓度，也可能在半导体制造中沉积在晶圆表面，影响金属互连线的电阻率、可靠性，甚至导致器件失效。对这些杂质的控制是确保过程节点良率的关键。
MultiDetek3具有0.1至1000ppb级别的低痕量杂质检测能力，灵敏度高，可精准识别水、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷、一氧化二氮，总碳氢化合物等多种关键杂质成分。因此可以显著减少因气体不纯导致的晶圆报废率。
LDetek系统可稳定监测电子气体纯度至8个9（99.999999%），检测下限可达0.1ppb，确保满足严苛的半导体制造要求，减少气体不纯带来的危害。 MultiDetek3系统可在5分钟内完成一个分析循环，实现对气体质量的快速检测和异常预警，平均重复性优于±2%，有助于提升整体净化效率。 通过精准控制气体纯度，有效减少原材料浪费和不良品率，帮助客户实现高达30%的运用成本节约。系统正常运行时间高达99.5%，提高生产效率。